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物理气相沉积工艺设备

  物理气相沉积技术是指在真空条件下,采用物理方法,将材料源表面转化成原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD设备使得镀膜厚度及均匀性可控,且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高,现已广泛应用于电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等各类工业领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层,该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。太阳城娱乐凭借在大尺寸平面和旋转阴极设计、磁场仿真开发、平衡与非平衡磁控溅射、阴极电弧源、离子源表面刻蚀和辅助沉积等多项关键技术的积累创新,现已有连续式磁控镀膜装备、柔性基材卷绕镀膜装备、单体复合型真空镀膜设备。产品覆盖锂电复合集流体、磁性材料稀土扩渗层、柔性透明导电层以及医疗器械和汽车零部件等工件表面功能层的制备,可为锂电、光伏、氢能等新能源行业,以及医疗、消费器件、汽车零部件等其他工业领域,提供真空镀膜装备及技术开发服务。

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